8英寸「單片式硅外延生長爐』
晶盛機電研發的8英寸單片式硅外延生長爐，可兼容6英寸、8英寸硅晶片生長，結構可靠穩定，有較好的膜厚和電阻均勻性
6英寸「碳化硅外延爐』
晶盛機電研發的6英寸碳化硅外延爐，可實現生長過程自動化控制，有較好的薄膜均勻性，兼容4英寸、6英寸外延片生長，結構簡單，單片成本低
6英寸「立式碳化硅外延爐』
晶盛機電研發的6英寸立式碳化硅外延爐，可實現對4英寸、6英寸晶圓外延的生長，成膜質量優，工藝穩定性好，生產效率有效提升
6英寸「雙片式碳化硅外延爐』
晶盛機電研發的6英寸雙片式碳化硅外延爐，與單片設備相比，單臺產能增加70%，單片運營成本降幅可達30%以上
8英寸「爐管』
晶盛機電研發的8英寸爐管，可同時對150片產品進行加工，滿足多晶硅、退火等工藝需求，設備自動化程度高，可對接工廠MES系統
12英寸「爐管』
晶盛機電研發的12英寸爐管，可同時對125片產品進行加工，滿足多晶硅、退火等工藝需求，設備自動化程度高，可對接工廠MES系統
先進制程及功率半導體裝備（部分產品）
以CVD技術為核心，應用于先進制程、功率半導體的外延裝備
